什么是抵抗？
?抗蝕劑是一種用于在蝕刻和焊接等過程中保護電路板特定部分的材料。通常，半導體工藝中使用的“光致抗蝕劑”簡稱為“抗蝕劑”。
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當光刻膠吸收特定波長的光時，其化學結(jié)構(gòu)會發(fā)生變化，并且其在清潔和顯影溶液中的溶解度也會發(fā)生變化。因此，在基板上涂敷抗蝕劑后，隔著描繪有電路圖案的掩模對基板照射光，從而能夠僅使抗蝕劑的一部分溶解或不溶解。如果在該狀態(tài)下用顯影液清洗基板，則僅溶出可溶性抗蝕劑，成為僅基板的一部分被抗蝕劑保護的狀態(tài)。
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抗蝕劑有兩種類型：“正性抗蝕劑”，其中受光照射的區(qū)域溶解在顯影劑中；以及“負性抗蝕劑”，其中受光照射的區(qū)域變得不溶解。
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